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Dispositivo di pulizia UV ad alta energia a eccimeri da 172 nm per la modifica della superficie di batterie a semiconduttore.
Semiconductor Surface Modification Device
dry organic contaminant removal machine

Dispositivo di pulizia UV ad alta energia a eccimeri da 172 nm per la modifica della superficie di batterie a semiconduttore.

IL Dispositivo UV a eccimeri da 172 nm consegna fotopulizia ad alta energia E modifica della superficie a livello nanometrico per semiconduttori, batterie e materiali avanzati. Utilizzando fotoni UV freddi da 172 nm, questo sistema compatto rompe i legami chimici organici e ossida i contaminanti senza danneggiare il substrato. Con un'elevata uniformità di ±15% Grazie alle temperature di esercizio inferiori a 40 °C, rappresenta un'alternativa ecologica e a basso consumo alle tradizionali lampade a mercurio a bassa pressione.

  • Modello :

    EX-C300

  • Temperatura di esercizio :

    -5℃~50℃

  • Intensità (distanza dalla superficie di irradiazione 8 mm) :

    >45 mW/cm2

  • Apporto di azoto :

    30Lpm

  • Potenza totale :

    <400W

  • Tensione di ingresso (V) :

    AC220V
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  • Caratteristiche principali

    01 Pulizia ad alta velocità

    Offre una velocità di pulizia 10 volte superiore rispetto alle tradizionali lampade a mercurio a bassa pressione, accelerando notevolmente i cicli di lavorazione in linea o in batch.

    02 Commutazione individuale

    Consente l'accensione e lo spegnimento individuali di ciascun modulo lampada in base alla larghezza di elaborazione, massimizzando il bilancio energetico e prolungando la durata complessiva della lampada.

    03 Funzionamento a bassa temperatura

    Previene i danni termici sui materiali termosensibili, mantenendo una temperatura superficiale del substrato stabile e rigorosamente non superiore a 40℃.

    04 Basso consumo energetico

    Architettura altamente ecocompatibile che consuma il 65% di energia in meno rispetto alle configurazioni standard con lampade a mercurio, senza compromettere l'intensità luminosa.

    05 Salvaspazio

    È dotato di un alimentatore estremamente compatto, in grado di supportare senza problemi l'intero sistema di trattamento anche in linee di produzione automatizzate con spazi limitati.

    06 Manutenzione semplice

    Progettata per una pulizia e una manutenzione ordinaria senza sforzo, consente agli operatori di sostituire rapidamente le lampade per evitare tempi di inattività.

    07 Elevata uniformità

    Garantisce un'uniformità di irradianza di ±15% nell'area di irradiazione designata, aumentando significativamente la stabilità del processo in batch.

     

    172 nm Dispositivo UV ad alta energia

     

    Il sistema di eccimeri ultravioletti (UV) sottovuoto ad alta energia da 172 nm rappresenta un cambio di paradigma in
    Pulizia industriale a secco e modificazione superficiale a livello atomico.
    Progettato per il confezionamento dei semiconduttori, lo sviluppo di batterie agli ioni di litio e i settori della produzione di display,
    questo sistema fotonico ad alto flusso colpisce l'architettura molecolare dei contaminanti organici superficiali
    senza modificare le proprietà di massa del substrato.
     
    Generando fotoni intensivi a singola lunghezza d'onda di 172 nm, il sistema offre una doppia azione pulente:
    scindendo direttamente i legami chimici organici critici (C=C, CH, OH) e generando simultaneamente ossigeno singoletto e cluster di ozono altamente reattivi a partire da ambienti a temperatura ambiente o spurgati con azoto.
    Gli ossidi volatili risultanti si staccano facilmente, lasciando una superficie ultrapura e altamente idrofila, pronta per processi di microincollaggio, rivestimento o deposizione.

    --------------占位---------------

    VIDEO DELL'OPERAZIONE

    Certificazioni e conformità

    ISO Certificate
    ISO

    ISO 9001/14001

    Sistemi di gestione della qualità e dell'ambiente certificati che garantiscono una calibrazione uniforme della produzione.

    CE Certified Declaration
    CE

    Certificato CE

    Pienamente conforme agli standard europei in materia di salute e sicurezza sul lavoro, sicurezza dei sistemi e protezione.

    ROHS Compliance Certificate
    RoHS

    Conforme alla direttiva RoHS

    Architettura hardware ecocompatibile, priva di piombo, mercurio e altri elementi pesanti pericolosi soggetti a restrizioni.

    UL Safety Certificate
    UL

    Certificato UL

    Soddisfa i rigorosi criteri nordamericani in materia di isolamento elettrico, messa a terra e sicurezza operativa.

    FAQ

    Q Perché scegliere la lampada a eccimeri a lunghezza d'onda singola di 172 nm rispetto alle tradizionali lampade a mercurio a bassa pressione?

    Le tradizionali lampade a mercurio emettono lunghezze d'onda ampie a 185 nm e 254 nm, che dipendono fortemente dalle reazioni secondarie con l'ozono. Il nostro sistema a eccimeri specializzato da 172 nm proietta un'energia fotonica di 7,2 eV, che corrisponde e rompe direttamente l'energia del legame covalente dei comuni inquinanti organici (C=C, CH). Ciò consente velocità di pulizia a secco fino a 10 volte superiori ed elimina gli elevati rischi di radiazioni termiche.

    Q In che modo la funzione di commutazione individuale previene il deterioramento precoce delle lampade?

    A differenza dei collegamenti in serie sequenziali, dove il guasto di una singola lampada compromette l'intero array, il nostro sistema instrada ballast elettrici isolati a ciascun tubo. Gli utenti possono commutare i moduli in modo indipendente in base ai requisiti di larghezza della superficie del substrato, estendendo i tempi di funzionamento strutturali e semplificando la sostituzione mirata sul campo senza tempi di inattività.

    Q Quali sono i requisiti ambientali fondamentali per il funzionamento del sistema EX-C300?

    Il sistema industriale EX-C300 si basa su un alimentatore CA a 220 V, su un funzionamento a temperatura ambiente standard (da -5 °C a 50 °C) e su un circuito di raffreddamento ad acqua a ricircolo a 25 °C. Per massimizzare le prestazioni del processo VUV ed eliminare l'ossidazione interna delle finestre, si raccomanda un flusso stabile di azoto (N₂) di 30 l/min durante i cicli di irradiazione in corso.
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