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IL Dispositivo UV a eccimeri da 172 nm consegna fotopulizia ad alta energia E modifica della superficie a livello nanometrico per semiconduttori, batterie e materiali avanzati. Utilizzando fotoni UV freddi da 172 nm, questo sistema compatto rompe i legami chimici organici e ossida i contaminanti senza danneggiare il substrato. Con un'elevata uniformità di ±15% Grazie alle temperature di esercizio inferiori a 40 °C, rappresenta un'alternativa ecologica e a basso consumo alle tradizionali lampade a mercurio a bassa pressione.
Lunghezza d'onda di 172 nm
> 45 mW/cm²Intensità
30 litri al minutoApporto di azoto
