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Per affrontare il problema della forte dipendenza del settore dalle sorgenti luminose importate nella produzione di fascia alta, GMY ha stretto una partnership con i produttori di apparecchiature a valle per condurre attività di ricerca e sviluppo mirate. Sfruttando la propria esperienza tecnologica in fotopulitura, fotopolimerizzazione, modifica delle superfici, sterilizzazione dei fluidi e trattamento dei gas di scarico industriali, GMY offre soluzioni ottiche economicamente vantaggiose che soddisfano i rigorosi requisiti di processo delle industrie di precisione con una resa radiativa stabile.
La radiazione quantistica ad alta energia della luce ultravioletta a eccimeri da 172 nm scompone le catene molecolari degli inquinanti organici sulla superficie del materiale, stimolando al contempo l'ossigeno bioattivo e i radicali liberi. Questo ossida e degrada istantaneamente la materia organica residua in CO₂ e H₂O gassosi, ottenendo un trattamento superficiale ultra-pulito, senza contatto e senza tracce di sostanze chimiche.
Offriamo soluzioni all'avanguardia ampiamente utilizzate nei seguenti settori:
Sfruttando la tecnologia di opacizzazione e polimerizzazione superficiale a eccimeri da 172 nm, questo processo rompe direttamente i legami molecolari del polimero utilizzando una specifica lunghezza d'onda ad alta energia, innescando una reazione di reticolazione ad alta velocità tra monomeri e oligomeri. Rispetto alla tradizionale polimerizzazione UV a banda larga, questo processo ricostruisce con precisione la superficie livellata, ottenendo un effetto di opacizzazione a micro-pieghe uniforme in tempi estremamente brevi, migliorando significativamente la durezza superficiale e la resistenza ai graffi.
Adatto ai seguenti settori:
La combinazione di una sorgente luminosa UV a 185 nm e della tecnologia delle lampade a eccimeri a 172 nm innesca una potente reazione fotochimica all'interno delle condotte idrauliche. La scissione fotocatalitica delle molecole d'acqua genera radicali idrossilici altamente reattivi che ossidano e decompongono completamente il carbonio organico totale (TOC) residuo nell'acqua in CO₂ e H₂O. La sorgente luminosa a eccimeri a 172 nm, grazie alla sua maggiore energia fotonica, garantisce un'elevata efficienza nella riduzione del TOC per i sistemi di acqua ultrapura e acqua ultrapura (UPW).
Aumento dell'energia superficiale:
Grazie all'intervento radiativo della luce eccimerica a 172 nm, le catene molecolari di idrocarburi presenti sulla superficie di materiali non polari vengono efficacemente spezzate. La reazione fotochimica introduce un gran numero di gruppi idrofili polari, come i gruppi idrossilici (-OH) e carbossilici (-COOH), aumentando significativamente l'energia libera superficiale del materiale. Il substrato trattato può raggiungere una completa modifica idrofila, con le gocce che si trasformano istantaneamente da microsfere in una pellicola liquida uniformemente bagnata sulla superficie.
Titanio, foglio di alluminio, ecc.
Wafer di silicio, substrati di vetro ITO.
PP, PC, PE, PMMA, ANIMALE DOMESTICO, PVC, PS.
Osservate in azione le nostre applicazioni avanzate con sorgente luminosa a eccimeri da 172 nm, le linee di controllo qualità di precisione e i flussi di lavoro di produzione automatizzati.
Affidatevi a GMY per lampade a eccimeri da 172 nm robuste e sistemi di fotopulizia personalizzabili, studiati su misura per gli standard del vostro settore.
