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Lampada a eccimeri da 172 nm

Lampada a eccimeri da 172 nm

  • Modulo lampada a eccimeri da 172 nm, wafer e maschera semiconduttori, pulizia UV, pellicola FMM/Invar.
    Elimina i contaminanti organici su scala nanometrica. Ampiamente utilizzato per la pulizia UV di wafer di semiconduttori, la pulizia di maschere metalliche fini FMM, la pulizia di maschere Invar, la pulizia di maschere di evaporazione OLED e la pulizia di fotomaschere. Pulizia UV di PCB e opacizzazione UV a eccimeri nelle linee di rivestimento a rulli. Rappresenta un'alternativa economica alle lampade a eccimeri Hamamatsu e Ushio da 172 nm.

    Pulizia di wafer e FMM

    Opacizzazione e rivestimento di pellicole

    Rimozione di particelle organiche tramite piastra fredda

    Modifica idrofila

  • Modulo a eccimeri da 172 nm per la rimozione di particelle organiche tramite piastra fredda, la riduzione del TOC e la purificazione dell'acqua.

    Progettato per sistemi di acqua ultrapura (UPW), questo sistema ecologico e privo di mercurio Modulo VUV da 172 nm Attiva una potente ossidazione radicalica per ridurre il TOC fino a livelli di ppb. Convertendo i composti organici in tracce di CO₂ e H₂O, offre una soluzione ideale per la purificazione dell'acqua in settori come semiconduttori, prodotti farmaceutici e laboratori. Il suo design modulare intelligente semplifica la manutenzione in loco e l'ampliamento del sistema, con il supporto completo di livelli di potenza e portate personalizzabili.

    Semiconduttori UPW TOC

    TOC dell'acqua pura farmaceutica

    Acqua ultrapura da laboratorio

    Sistemi online di riduzione del TOC

  • Integrazione industriale Lampade a eccimeri da 172 nm Fotopulitura delle superfici

    Migliora la precisione del trattamento delle superfici con GMY Lampade a eccimeri da 172 nm. Utilizzando tecnologie avanzate ossidazione fotochimicaLe nostre soluzioni di luce UV a 172 nm, prive di mercurio, decompongono efficacemente i contaminanti organici, garantendo una pulizia a livello atomico su wafer di semiconduttori, substrati per display e dispositivi ottici.

    Substrati per display

    Semiconduttori, wafer di silicio, circuiti integrati

    Circuiti integrati

    Dispositivi ottici

    Produzione di LCD

    Carta elettronica

    Lenti AR

    Produzione micro-nano

  • Modifica del rivestimento fotopolimerizzabile per superficie opaca con lampada a eccimeri ad alta potenza da 172 nm

    Scopri l'alta efficienza di GMY lampade a eccimeri da 172 nm per fotopolimerizzazione industrialeLampada VUV potente, priva di mercurio, da 350W a 1000W, per reticolazione superficiale rapida, finitura opaca e modifica di rivestimenti PPF/PCB. Rispetto alla tradizionale polimerizzazione UV, riduce i tempi di polimerizzazione e migliora gli effetti di modifica superficiale.

    Pellicole protettive per vernici

    Pannelli morbidi al tatto

    Attrezzature per la verniciatura

    Inchiostri per carta e imballaggi

    Inchiostri per mobili

    Inchiostri per autoveicoli e rivestimenti correlati

    Rivestimenti pigmentati e trasparenti

    Inchiostri per PCB

    Rivestimenti adesivi

    Stampa 3D

     

  • Modulo di fotomodificazione a eccimeri da 172 nm per impianti dentali

    IL Modulo di fotomodificazione GMY a 172 nm Rappresenta la soluzione di punta compatibile con il vuoto per attivare l'idrofilia degli impianti dentali. Grazie alla precisa tecnologia a eccimeri da 172 nm, il modulo purifica le superfici in titanio scomponendo gli idrocarburi organici, il che migliora drasticamente la bioattività del TiO2 e l'osteointegrazione. Progettato per una perfetta integrazione con il dispositivo, questo modulo si distingue per l'elevata potenza in uscita, il minimo impatto termico, il ciclo di reazione rapido e l'ampia e omogenea copertura del fascio.

    Modifica della superficie

    Rimozione dei contaminanti organici

    Pulizia ultra-fine

  • Modulo mini lampada a eccimeri da 172 nm per la lavorazione dei semiconduttori

    IL Modulo eccimeri MINl da 172 nm è una soluzione desktop compatta e plug-and-play per ricerca e sviluppo nel settore dei semiconduttori E validazione di laboratorioGrazie all'emissione di radiazioni ultraviolette sottovuoto a onde corte (VUV), questo sistema scinde i legami molecolari per eliminare i contaminanti organici e modificare l'energia superficiale senza danneggiare il substrato, offrendo una piattaforma agile per la convalida dei processi, ideale per laboratori di ricerca e università.

    Display flessibile

    pellicole ottiche sottili

    Pretrattamento prima della verniciatura

  • Dispositivo di pulizia UV ad alta energia a eccimeri da 172 nm per la modifica della superficie di batterie a semiconduttore.

    IL Dispositivo UV a eccimeri da 172 nm consegna fotopulizia ad alta energia E modifica della superficie a livello nanometrico per semiconduttori, batterie e materiali avanzati. Utilizzando fotoni UV freddi da 172 nm, questo sistema compatto rompe i legami chimici organici e ossida i contaminanti senza danneggiare il substrato. Con un'elevata uniformità di ±15% Grazie alle temperature di esercizio inferiori a 40 °C, rappresenta un'alternativa ecologica e a basso consumo alle tradizionali lampade a mercurio a bassa pressione.

    Lunghezza d'onda di 172 nm

    > 45 mW/cm²Intensità

    30 litri al minutoApporto di azoto

  • Degradazione del TOC dell'acqua ultrapura con lampada a eccimeri da 172 nm

    GMY lampade a eccimeri da 172 nm offrire radiazioni VUV ad alta energia per degradare il TOC fino a livelli di ppb nell'acqua ultrapura. Lampade senza mercurio da 15W/20W per il trattamento industriale delle acque. Generando radicali liberi, i nostri sistemi a luce UV ossidano la materia organica in molecole di CO₂ e H₂O. Questa tecnologia avanzata è particolarmente adatta alla produzione di acqua ultrapura.

    Rimozione del TOC nell'acqua ultrapura

    Tracce di inquinanti nell'acqua potabile

    Decomposizione dei residui di pesticidi

    Trattamento delle acque reflue dell'industria tessile (tintura)

    Generazione di ozono ad elevata purezza

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