

Pulizia di wafer e FMM
Opacizzazione e rivestimento di pellicole
Rimozione di particelle organiche tramite piastra fredda
Modifica idrofila
Progettato per sistemi di acqua ultrapura (UPW), questo sistema ecologico e privo di mercurio Modulo VUV da 172 nm Attiva una potente ossidazione radicalica per ridurre il TOC fino a livelli di ppb. Convertendo i composti organici in tracce di CO₂ e H₂O, offre una soluzione ideale per la purificazione dell'acqua in settori come semiconduttori, prodotti farmaceutici e laboratori. Il suo design modulare intelligente semplifica la manutenzione in loco e l'ampliamento del sistema, con il supporto completo di livelli di potenza e portate personalizzabili.
Semiconduttori UPW TOC
TOC dell'acqua pura farmaceutica
Acqua ultrapura da laboratorio
Sistemi online di riduzione del TOC
Migliora la precisione del trattamento delle superfici con GMY Lampade a eccimeri da 172 nm. Utilizzando tecnologie avanzate ossidazione fotochimicaLe nostre soluzioni di luce UV a 172 nm, prive di mercurio, decompongono efficacemente i contaminanti organici, garantendo una pulizia a livello atomico su wafer di semiconduttori, substrati per display e dispositivi ottici.
Substrati per display
Semiconduttori, wafer di silicio, circuiti integrati
Circuiti integrati
Dispositivi ottici
Produzione di LCD
Carta elettronica
Lenti AR
Produzione micro-nano
Scopri l'alta efficienza di GMY lampade a eccimeri da 172 nm per fotopolimerizzazione industrialeLampada VUV potente, priva di mercurio, da 350W a 1000W, per reticolazione superficiale rapida, finitura opaca e modifica di rivestimenti PPF/PCB. Rispetto alla tradizionale polimerizzazione UV, riduce i tempi di polimerizzazione e migliora gli effetti di modifica superficiale.
Pellicole protettive per vernici
Pannelli morbidi al tatto
Attrezzature per la verniciatura
Inchiostri per carta e imballaggi
Inchiostri per mobili
Inchiostri per autoveicoli e rivestimenti correlati
Rivestimenti pigmentati e trasparenti
Inchiostri per PCB
Rivestimenti adesivi
Stampa 3D
IL Modulo di fotomodificazione GMY a 172 nm Rappresenta la soluzione di punta compatibile con il vuoto per attivare l'idrofilia degli impianti dentali. Grazie alla precisa tecnologia a eccimeri da 172 nm, il modulo purifica le superfici in titanio scomponendo gli idrocarburi organici, il che migliora drasticamente la bioattività del TiO2 e l'osteointegrazione. Progettato per una perfetta integrazione con il dispositivo, questo modulo si distingue per l'elevata potenza in uscita, il minimo impatto termico, il ciclo di reazione rapido e l'ampia e omogenea copertura del fascio.
Modifica della superficie
Rimozione dei contaminanti organici
Pulizia ultra-fine
IL Modulo eccimeri MINl da 172 nm è una soluzione desktop compatta e plug-and-play per ricerca e sviluppo nel settore dei semiconduttori E validazione di laboratorioGrazie all'emissione di radiazioni ultraviolette sottovuoto a onde corte (VUV), questo sistema scinde i legami molecolari per eliminare i contaminanti organici e modificare l'energia superficiale senza danneggiare il substrato, offrendo una piattaforma agile per la convalida dei processi, ideale per laboratori di ricerca e università.
Display flessibile
pellicole ottiche sottili
Pretrattamento prima della verniciatura
IL Dispositivo UV a eccimeri da 172 nm consegna fotopulizia ad alta energia E modifica della superficie a livello nanometrico per semiconduttori, batterie e materiali avanzati. Utilizzando fotoni UV freddi da 172 nm, questo sistema compatto rompe i legami chimici organici e ossida i contaminanti senza danneggiare il substrato. Con un'elevata uniformità di ±15% Grazie alle temperature di esercizio inferiori a 40 °C, rappresenta un'alternativa ecologica e a basso consumo alle tradizionali lampade a mercurio a bassa pressione.
Lunghezza d'onda di 172 nm
> 45 mW/cm²Intensità
30 litri al minutoApporto di azoto
GMY lampade a eccimeri da 172 nm offrire radiazioni VUV ad alta energia per degradare il TOC fino a livelli di ppb nell'acqua ultrapura. Lampade senza mercurio da 15W/20W per il trattamento industriale delle acque. Generando radicali liberi, i nostri sistemi a luce UV ossidano la materia organica in molecole di CO₂ e H₂O. Questa tecnologia avanzata è particolarmente adatta alla produzione di acqua ultrapura.
Rimozione del TOC nell'acqua ultrapura
Tracce di inquinanti nell'acqua potabile
Decomposizione dei residui di pesticidi
Trattamento delle acque reflue dell'industria tessile (tintura)
Generazione di ozono ad elevata purezza