semiconductor wafer dry cleaning UV light

Integrazione industriale Lampade a eccimeri da 172 nm Fotopulitura delle superfici

Name: Integrazione industriale Lampade a eccimeri da 172 nm Fotopulitura delle superfici
Availability: InStock

Migliora la precisione del trattamento delle superfici con GMY Lampade a eccimeri da 172 nm. Utilizzando tecnologie avanzate ossidazione fotochimicaLe nostre soluzioni di luce UV a 172 nm, prive di mercurio, decompongono efficacemente i contaminanti organici, garantendo una pulizia a livello atomico su wafer di semiconduttori, substrati per display e dispositivi ottici.

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Specifiche del prodotto

Modello	Energia	Dimensioni del tubo (diametro × lunghezza)	Lunghezza di emissione	Codice prodotto
172E860D40×957	860W	φ40 × 957 mm	860 mm	A520121 4001000
172E172D26.5×908	172W	φ26,5 × 908 mm	842 mm	A5201215001000

Caratteristiche principali

01 Funzionamento senza mercurio

Trattamento UV sottovuoto 100% ecologico, pienamente conforme alle restrizioni internazionali RoHS, che elimina i pericolosi rischi legati al mercurio e i rischi di smaltimento nelle camere bianche.

02 I fotoni ad alta energia generano radicali idrossilici (HO*)

Emette lunghezze d'onda VUV ad alta energia per ionizzare continuamente le molecole di ossigeno presenti nell'ambiente, producendo radicali idrossilici reattivi ad alta densità (HO*) per una rapida scissione dei legami organici.

03 Qualità costante e consegne affidabili grazie all'elevata capacità produttiva.

Grazie a linee di produzione su scala industriale, che garantiscono la completa uniformità dei lotti, rigorosi test di invecchiamento pre-spedizione e un'affidabilità a prova di bomba della catena di approvvigionamento.

04 Design della lampada personalizzabile per applicazioni flessibili

Lunghezze d'arco personalizzate, dimensioni dell'inviluppo, terminali elettrici multipolari e controlli di zavorra abbinati per ottenere una perfetta integrazione meccanica in utensili personalizzati.

172 nm Lampade a eccimeri - Pulizia fotografica

Migliora la precisione del trattamento superficiale con le lampade a eccimeri da 172 nm di GMY. Utilizzando l'ossidazione fotochimica,
Le nostre soluzioni di luce UV a 172 nm senza mercurio decompongono efficacemente i contaminanti organici
per raggiungere una pulizia a livello atomico su wafer di semiconduttori, substrati per display e dispositivi ottici.

La lampada a eccimeri da 172 nm è una sorgente di luce ultravioletta sottovuoto di nuova generazione progettata
Specificamente per il lavaggio a secco ad alta efficienza e la modifica delle superfici.
Operando secondo il principio dell'ossidazione fotochimica diretta,
I fotoni VUV da 172 nm trasportano energia per rompere i legami molecolari dei contaminanti organici presenti sulla superficie del materiale.
Contemporaneamente, la luce reagisce con l'ossigeno presente nell'ambiente, lasciando la superficie bersaglio a un livello di pulizia atomica senza danneggiare la struttura del substrato.

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Applicazione Campi

Substrati per display

Consente la litografia VUV a secco su larga scala per superfici di grandi dimensioni in vetro. Elimina efficacemente le tracce residue multimolecolari prima degli strati di elaborazione dell'array, garantendo la massima uniformità e riducendo i tassi di scarto.

Wafer di silicio semiconduttore

Rimuove agglomerati organici invisibili e idrocarburi aerodispersi dalle superfici di silicio grezzo fino al livello atomico. Prepara i pattern critici del wafer per le tracce di litografia nativa e gli strati di ossido.

Circuiti integrati

Decontamina le micro-protuberanze e i layout di interconnessione dei circuiti integrati ad alta densità prima del flip-chip bonding. Pulisce le piste dei terminali per migliorare drasticamente l'adesione dell'underfill ed eliminare la delaminazione del package.

Dispositivi ottici

Offre un servizio di pulizia a secco a freddo senza contatto per prismi delicati, componenti cristallini e ottiche laser avanzate. Protegge i sottili strati antiriflesso da graffi e aloni di solvente causati dalla pulizia manuale.

Produzione di LCD

Pulisce le piastre a cristalli liquidi dei transistor a film sottile (TFT), i filtri colore e i target polarizzatori. Massimizza la bagnabilità della superficie per favorire una distribuzione uniforme del materiale durante i processi di assemblaggio ad alta velocità.

Carta elettronica

Ottimizza strati di supporto polimerici complessi e pannelli a matrice su display flessibili con carta elettronica. Aumenta significativamente la densità di reticolazione interfacciale senza introdurre distorsioni termiche strutturali.

Lenti AR

Esegue una pulizia fotografica di precisione su lenti intelligenti indossabili in resina o vetro. Riduce drasticamente gli angoli di contatto dell'acqua sulla superficie prima dei processi di deposizione in fase vapore per garantire rivestimenti ottici durevoli e privi di aloni.

Produzione micro-nano

Innesca la modificazione chimica e l'inserimento di gruppi polari funzionali (-OH, -COOH) su resine polimeriche e configurazioni microfluidiche lab-on-a-chip, creando canali capillari su substrato solido e un legame permanente.

Certificazioni e conformità

ISO

ISO 9001/14001

Sistema di gestione della qualità certificato che garantisce standard di produzione di altissimo livello.

Certificato CE

Pienamente conforme alla legislazione europea in materia di salute, sicurezza e tutela ambientale.

RoHS

Conforme alla direttiva RoHS

Produzione ecocompatibile, completamente priva di sostanze pericolose.

Certificato UL

Standard nordamericano di eccellenza per la sicurezza elettrica e la prevenzione incendi.

FAQ

Q Cosa rende le lampade a eccimeri da 172 nm superiori alle tradizionali lampade UV da 185 nm per la fotopulitura?

A differenza delle lampade a mercurio a bassa pressione (185 nm/254 nm), la luce a eccimeri da 172 nm emette un'energia a singolo fotone significativamente più elevata, in grado di rompere direttamente i forti legami molecolari carbonio-carbonio all'interno dei composti organici. Inoltre, la luce da 172 nm presenta coefficienti di assorbimento eccezionalmente elevati negli strati d'aria comuni, consentendo di generare contemporaneamente radicali idrossilici ad alta densità ($HO^\bullet$) e ozono nativo, accelerando esponenzialmente la velocità di rimozione della contaminazione organica.

Q Queste lampade a eccimeri industriali ad alta potenza sono prive di mercurio?

Sì, tutte le lampade a eccimeri GMY da 172 nm funzionano tramite scariche a barriera dielettrica (DBD) completamente prive di mercurio. Ciò è pienamente conforme ai rigorosi standard delle fabbriche ecocompatibili, alla normativa RoHS e alle moderne linee guida ambientali, rendendole sicure per gli ambienti a camera bianca e facili da smaltire al termine del loro ciclo di vita.

Q È possibile integrare queste lampade direttamente nelle linee di trasporto automatizzate ad alta velocità?

Assolutamente. Grazie al funzionamento ad accensione istantanea della tecnologia a eccimeri, queste lampade non richiedono i lunghi tempi di riscaldamento tipici delle lampade a mercurio. Possono accendersi e spegnersi istantaneamente tramite il segnale del nastro trasportatore, prevenendo il surriscaldamento in caso di arresti imprevisti del sistema e garantendo un'enorme flessibilità di integrazione.

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