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modulo di attivazione pellicola VUV

modulo di attivazione pellicola VUV

Modulo lampada a eccimeri da 172 nm, wafer e maschera semiconduttori, pulizia UV, pellicola FMM/Invar.
Elimina i contaminanti organici su scala nanometrica. Ampiamente utilizzato per la pulizia UV di wafer di semiconduttori, la pulizia di maschere metalliche fini FMM, la pulizia di maschere Invar, la pulizia di maschere di evaporazione OLED e la pulizia di fotomaschere. Pulizia UV di PCB e opacizzazione UV a eccimeri nelle linee di rivestimento a rulli. Rappresenta un'alternativa economica alle lampade a eccimeri Hamamatsu e Ushio da 172 nm.

Pulizia di wafer e FMM
Opacizzazione e rivestimento di pellicole
Rimozione di particelle organiche tramite piastra fredda
Modifica idrofila

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