Lampade UV tradizionali vs lampade a eccimeri da 172 nm: un confronto
Nov 06, 2026
La tecnologia a raggi ultravioletti è ampiamente utilizzata nella produzione industriale, nel trattamento delle superfici, nella purificazione dell'acqua, nella stampa, nella verniciatura e nella disinfezione. Tuttavia, non tutte le sorgenti di luce UV funzionano allo stesso modo. Le lampade UV tradizionali, comprese quelle a base di mercurio, e le lampade a eccimeri da 172 nm differiscono significativamente per lunghezza d'onda, caratteristiche di emissione, effetti fotochimici e applicazioni idonee.Per i produttori che valutano un nuovo processo UV, la scelta della sorgente luminosa più adatta non si riduce semplicemente al confronto tra potenza o intensità di emissione delle lampade. La questione più importante è se la lunghezza d'onda e le caratteristiche di radiazione siano in grado di raggiungere la reazione chimica, la condizione superficiale o il risultato di trattamento desiderati.Qual è dunque la differenza tra le tradizionali lampade UV e le lampade a eccimeri da 172 nm? Le tradizionali sorgenti UV rimangono efficaci per molti processi consolidati di polimerizzazione e disinfezione, mentre la tecnologia a raggi ultravioletti sottovuoto (VUV) da 172 nm offre vantaggi specifici nella rimozione di contaminanti organici, nell'attivazione delle superfici e nella modifica di rivestimenti specializzati.GMY Lighting Technology Co., Ltd. sviluppa lampade a eccimeri da 172 nm e moduli di luce UV per applicazioni industriali, tra cui la pulizia dei semiconduttori, la modifica delle superfici, la fotopolimerizzazione e il trattamento dell'acqua ultrapura. Questo confronto spiega il funzionamento delle due tecnologie, le loro differenze e come i produttori possono determinare quale sorgente UV sia più adatta alle proprie esigenze di produzione.Che cosa sono le lampade UV tradizionali?Le lampade UV tradizionali sono sorgenti luminose ultraviolette consolidate e utilizzate in applicazioni industriali, commerciali e ambientali. A seconda del design, possono emettere uno spettro relativamente ampio o concentrare la loro emissione attorno a specifiche lunghezze d'onda ultraviolette.Le lampade a vapori di mercurio ne sono un esempio comune. Le lampade a mercurio a bassa pressione sono generalmente associate a linee di emissione intorno a 185 nm e 254 nm, mentre le lampade a mercurio a media pressione producono una gamma più ampia di lunghezze d'onda UV. I diversi tipi di lampade vengono selezionati in base alla reazione fotochimica o al processo di trattamento richiesto.Le lampade UV tradizionali sono comunemente utilizzate per:Polimerizzazione UV di inchiostri, rivestimenti, adesivi e materiali di stampa.Disinfezione a raggi UV-C di aria, acqua e superfici esposte.Ossidazione fotochimica e trattamento dei contaminanti organici.Trattamento delle acque industriali e delle acque reflue.Processi UV generali nelle apparecchiature di produzione.Un importante vantaggio della tecnologia UV convenzionale è la sua consolidata infrastruttura industriale. Molte linee di produzione utilizzano già lampade UV a mercurio, con alimentatori, riflettori, sistemi di raffreddamento e parametri di processo compatibili.Ad esempio, GMY fornisce diversi lampade UV al mercurio Per applicazioni quali il trattamento delle acque e la disinfezione UV. Questi prodotti soddisfano esigenze diverse rispetto alle sorgenti VUV specializzate a 172 nm e devono essere valutati in base al processo previsto.Le prestazioni di una lampada UV tradizionale dipendono dal suo spettro di emissione, dall'irradianza, dalle condizioni operative, dall'età della lampada, dalla distanza dal bersaglio e dalle proprietà ottiche del materiale trattato. Pertanto, il termine lampada UV tradizionale si riferisce a diverse tecnologie piuttosto che a un'unica sorgente luminosa standardizzata.Che cos'è una lampada a eccimeri da 172 nm?Una lampada a eccimeri da 172 nm è una sorgente di luce ultravioletta sottovuoto che emette radiazioni a banda stretta centrate intorno ai 172 nanometri. Si basa comunemente sulla tecnologia a scarica di eccimeri di xeno e produce fotoni VUV ad alta energia per processi fotochimici specializzati.A 172 nm, l'energia dei fotoni è di circa 7,2 eV. Questa energia relativamente elevata permette alla radiazione di innescare reazioni fotochimiche utili per la degradazione di contaminanti organici e la modifica delle superfici dei materiali.A differenza di molti processi UV convenzionali che si basano su fotoiniziatori o radiazioni a lunghezza d'onda maggiore, la tecnologia a eccimeri da 172 nm può contribuire direttamente alla decomposizione delle molecole organiche sulle superfici esposte. Può anche interagire con le molecole di ossigeno e acqua presenti nell'ambiente circostante, producendo specie reattive che partecipano alle reazioni di ossidazione.Ciò rende le lampade a eccimeri da 172 nm particolarmente adatte ai processi in cui la pulizia della superficie, l'energia superficiale o la modifica fotochimica controllata sono più importanti della penetrazione profonda in un materiale spesso.GMY's Sorgente luminosa VUV a eccimeri da 172 nm È progettato per wafer di semiconduttori, substrati per display, componenti ottici e altre applicazioni di lavorazione di precisione delle superfici.A seconda del modello, le specifiche dei prodotti GMY includono potenze nominali da 5W a 1000W, con diverse dimensioni del tubo, metodi di raffreddamento, lunghezze di emissione e livelli di irradianza. Sono inoltre disponibili specifiche personalizzate per potenza, dimensioni e alimentatori compatibili, in base alle esigenze applicative.Lampade UV tradizionali vs. lampade a eccimeri da 172 nm: differenze principaliLa principale differenza tra le tradizionali lampade UV e le lampade a eccimeri da 172 nm risiede nello spettro di emissione e nel modo in cui la radiazione interagisce con i materiali. Le sorgenti UV tradizionali coprono diverse gamme di lunghezze d'onda e supportano un'ampia gamma di processi consolidati. Una lampada a eccimeri da 172 nm fornisce un'emissione VUV più specifica per la fotochimica di superficie mirata.Fattore di confrontoLampade UV tradizionaliLampade a eccimeri da 172 nmlunghezza d'ondaVaria a seconda del tipo di lampada, ad esempio 185 nm, 254 nm o UV ad ampio spettro.Emissione VUV a banda stretta centrata intorno a 172 nmEnergia dei fotoniDipende dalla lunghezza d'onda emessaCirca 7,2 eV per fotoneMeccanismo principaleReazioni fotochimiche, attivazione di fotoiniziatori o effetti germicidi a seconda della fonteFotochimica VUV ad alta energia e ossidazione superficialePenetrazioneDipende dalla lunghezza d'onda, dal materiale e dalla formulazione.Fortemente orientato alla superficie perché la radiazione a 172 nm viene facilmente assorbita dall'aria e da molti materialiPulizia delle superficiDisponibile con sistemi di ossidazione UV idoneiIdeale per rimuovere sottili contaminazioni organiche da superfici esposte.Modifica della superficiePossibile a seconda della lunghezza d'onda e della chimica del processo.Utile per l'attivazione della superficie, l'idrofilia e il miglioramento dell'adesioneApplicazioni industrialiPolimerizzazione generale, stampa, disinfezione e trattamento delle acquePulizia di precisione, modifica delle superfici, polimerizzazione specializzata e ossidazione VUVContenuto di mercurioLe lampade a base di mercurio contengono mercurioLe lampade a eccimeri da 172 nm di GMY sono prive di mercurio.Questo confronto è una guida tecnica generale. Le lampade UV tradizionali si basano su diverse tecnologie, pertanto le prestazioni effettive di una specifica lampada devono essere sempre valutate in base alla sua emissione spettrale e alle specifiche del prodotto.Come la lunghezza d'onda influenza le prestazioni del processo UVLa lunghezza d'onda è uno dei fattori più importanti nella scelta di una sorgente di luce UV industriale. Determina l'energia dei fotoni e influenza il modo in cui la radiazione viene assorbita dal materiale bersaglio, dal rivestimento, dal gas circostante e dal mezzo di processo.Le lunghezze d'onda più corte generalmente trasportano più energia per fotone. Tuttavia, un'energia fotonica più elevata non si traduce automaticamente in prestazioni migliori per ogni applicazione. Occorre considerare anche le caratteristiche di assorbimento del materiale e la reazione richiesta.Ad esempio, la radiazione VUV a 172 nm viene fortemente assorbita dall'ossigeno e da molti materiali organici. Ciò la rende utile per le reazioni fotochimiche focalizzate sulla superficie, ma significa anche che la lampada deve generalmente operare vicino alla superficie bersaglio in condizioni atmosferiche adeguate o in atmosfera controllata.Al contrario, le radiazioni UV a lunghezza d'onda maggiore possono penetrare in modo più efficace determinati rivestimenti o materiali, a seconda delle loro proprietà ottiche e della formulazione in fase di lavorazione.Per i produttori, quindi, la domanda corretta non è semplicemente quale lampada UV abbia la maggiore energia fotonica, bensì quale lunghezza d'onda fornisca la reazione richiesta alla profondità corretta, entro le condizioni di processo disponibili.Perché le lampade a eccimeri da 172 nm vengono utilizzate per la pulizia di precisione delle superficiLa contaminazione organica sulle superfici dei materiali può influire sull'adesione, sull'aderenza dei rivestimenti, sulla bagnabilità e sulla qualità dei processi produttivi successivi. Anche un sottile strato di residui organici può creare problemi nei processi che richiedono interfacce pulite e uniformi.Le lampade a eccimeri da 172 nm offrono un metodo di pulizia fotochimica a secco per rimuovere i contaminanti organici dalle superfici esposte. I fotoni VUV ad alta energia possono rompere i legami molecolari, mentre le reazioni legate all'ossigeno contribuiscono a ossidare i residui organici in composti più piccoli.Le applicazioni tipiche includono:Pulizia dei wafer di semiconduttori: Rimozione della contaminazione organica prima dell'incollaggio, della verniciatura o di altre fasi di lavorazione di precisione.Pulizia della fotomaschera e del FMM: Supporto nella rimozione dei residui organici da maschere metalliche sottili e fotomaschere.Trattamento del substrato del display: Preparazione del vetro e di altri materiali espositivi per i successivi processi di produzione.Pulizia dei componenti ottici: Migliorare la pulizia delle superfici prima della verniciatura o dell'assemblaggio.Modifica del materiale della batteria: Supporto per la pulizia e l'attivazione delle superfici di materiali selezionati per applicazioni in ambito batterie.GMY offre servizi specializzati moduli di lampade a eccimeri da 172 nm per la pulizia dei semiconduttori, il trattamento delle maschere, la modifica delle superfici e altre applicazioni industriali.Per le applicazioni che coinvolgono substrati delicati, la validazione del processo è essenziale. Irradianza, tempo di esposizione, distanza tra lampada e superficie, condizioni del gas e compatibilità del substrato devono essere valutati prima dell'avvio della produzione.Lampade a eccimeri da 172 nm per l'attivazione superficiale e la fotopolimerizzazioneOltre alla pulizia, la tecnologia a eccimeri da 172 nm può essere utilizzata anche per modificare le proprietà superficiali e avviare specifiche reazioni fotochimiche in rivestimenti e sistemi polimerici.L'attivazione superficiale è particolarmente utile quando un materiale necessita di una migliore bagnabilità o adesione prima di un successivo processo di rivestimento, incollaggio o deposizione. Rimuovendo le contaminazioni superficiali e modificandone la chimica, il trattamento VUV può contribuire a preparare un materiale per la fase di produzione successiva.Nelle applicazioni di rivestimento, la radiazione di eccimeri a 172 nm può contribuire alla reticolazione superficiale e alla formazione controllata di una texture superficiale. A seconda della formulazione del rivestimento e della progettazione del processo, ciò può contribuire a creare finiture opache, caratteristiche anti-impronta o specifici effetti superficiali.Il portafoglio prodotti di GMY comprende soluzioni a eccimeri ad alta potenza da 172 nm per applicazioni quali:Pellicole protettive per vernici e rivestimenti per autoveicoli.Pannelli morbidi al tatto e superfici decorative.Inchiostri per carta e imballaggi.Rivestimenti per mobili e inchiostri industriali.Inchiostri per circuiti stampati e rivestimenti adesivi.Processi selezionati di stampa 3D e rivestimento polimerico.Per alcuni sistemi di rivestimento, il trattamento con laser a eccimeri può essere integrato con la polimerizzazione UV convenzionale. La fase con laser a eccimeri può creare uno specifico effetto superficiale, mentre un successivo processo UV completa la polimerizzazione dell'intero strato di rivestimento. La sequenza effettiva dipende dalla composizione chimica del rivestimento e dai requisiti di produzione.Questa è una distinzione importante: le lampade a eccimeri da 172 nm non sostituiscono automaticamente tutte le lampade UV convenzionali per la polimerizzazione. Spesso risultano più efficaci se utilizzate per una specifica reazione superficiale all'interno di un processo opportunamente progettato.Tecnologia a eccimeri da 172 nm per la riduzione del TOC nell'acqua ultrapura.Un'altra importante applicazione della tecnologia VUV a 172 nm è il trattamento dell'acqua ultrapura. Nella produzione di semiconduttori, nella produzione farmaceutica e nei sistemi di laboratorio, tracce di contaminanti organici possono compromettere la qualità dell'acqua e i processi a valle.Il carbonio organico totale (TOC) è un parametro chiave utilizzato per valutare la contaminazione organica nell'acqua. Una sorgente luminosa a eccimeri da 172 nm può promuovere reazioni fotochimiche che decompongono i composti organici e generano specie reattive che contribuiscono all'ossidazione.GMY offre una lampada a eccimeri da 172 nm specifica per la degradazione del TOC (carbonio organico totale) in acqua ultrapura. La gamma di prodotti comprende modelli da 15 W e 20 W, con un'irradianza UV dichiarata superiore a 23 mW/cm² a 6 mm.Queste lampade sono progettate per applicazioni di trattamento delle acque, dove sorgenti luminose VUV compatte possono essere integrate in sistemi di trattamento idonei. Il loro utilizzo richiede la considerazione della progettazione del reattore, del flusso d'acqua, delle condizioni di esposizione, della trasmissione ottica e delle caratteristiche dei contaminanti organici.Per i sistemi UPW per semiconduttori, le apparecchiature per l'acqua da laboratorio e altre applicazioni ad alta purezza, il sistema di trattamento dovrebbe essere validato utilizzando misurazioni effettive della qualità dell'acqua, anziché basarsi solo sulla potenza della lampada o sulla lunghezza d'onda nominale.Quando è consigliabile scegliere una lampada UV tradizionale?Le lampade UV tradizionali rimangono una scelta pratica per molti processi industriali. Se la vostra linea di produzione utilizza già un sistema UV a mercurio compatibile e la lunghezza d'onda attuale garantisce le prestazioni di polimerizzazione, disinfezione o ossidazione richieste, la sua sostituzione potrebbe non apportare vantaggi operativi significativi.Le lampade UV tradizionali possono essere più adatte quando:La formulazione del vostro rivestimento è progettata per le lunghezze d'onda di polimerizzazione UV convenzionali.Per i sistemi di disinfezione di aria, acqua o superfici già esistenti, è necessaria la radiazione UV-C.Il vostro processo richiede uno spettro di emissione o un profilo di penetrazione specifici.La tua apparecchiatura è già ottimizzata per una lampada UV a mercurio esistente.La vostra applicazione non richiede la fotochimica di superficie specializzata associata alla radiazione VUV a 172 nm.Ad esempio, la gamma di lampade a mercurio di GMY comprende lampade per la riduzione del TOC a 185 nm e prodotti germicidi UV-C. Questi prodotti rispondono a diverse esigenze di trattamento e non devono essere confusi con le sorgenti a eccimeri a 172 nm.La scelta migliore dipende dall'obiettivo del processo, non dal fatto che una lampada sia considerata tradizionale o all'avanguardia.Quando una lampada a eccimeri da 172 nm è la scelta migliore?Una lampada a eccimeri da 172 nm è da valutare quando il processo produttivo richiede fotochimica VUV ad alta energia, rimozione precisa di contaminanti organici o modifiche superficiali difficili da ottenere con le sorgenti UV esistenti.Può essere particolarmente rilevante quando:È necessario rimuovere un sottile strato di contaminazione organica dalla superficie di un materiale di precisione.Desideri migliorare la bagnabilità della superficie o preparare un materiale per l'incollaggio e la verniciatura.Il vostro processo prevede l'utilizzo di wafer di semiconduttori, substrati per display, fotomaschere o componenti ottici.Per determinate applicazioni di rivestimento o polimerizzazione superficiale è necessaria una sorgente VUV specializzata.State sviluppando un sistema per la produzione di acqua ultrapura che richiede un'ossidazione avanzata dei contaminanti organici.Per il processo industriale in questione, si preferisce una sorgente luminosa priva di mercurio.Tuttavia, la radiazione a 172 nm presenta importanti considerazioni ingegneristiche. Viene fortemente assorbita dall'aria e la sua interazione con l'ossigeno può generare ozono. Pertanto, l'installazione della lampada, il flusso del gas, la schermatura, la ventilazione forzata e la protezione dell'operatore devono essere progettati in base all'applicazione e ai relativi requisiti di sicurezza.Poiché la radiazione VUV è fortemente orientata verso la superficie, non è adatta a tutte le applicazioni di polimerizzazione di film spessi o di penetrazione profonda. Il metodo più affidabile per determinare se offre un vantaggio misurabile consiste nel testare il substrato e la chimica di processo effettivi.Come scegliere la sorgente di luce UV più adatta alla tua linea di produzionePrima di selezionare una lampada UV tradizionale o una lampada a eccimeri da 172 nm, i produttori dovrebbero definire l'obiettivo del processo e identificare i requisiti prestazionali più importanti.I seguenti fattori possono essere utili per orientare la valutazione:Identificare il risultato del trattamento richiestoDeterminare se l'obiettivo principale è la polimerizzazione, la disinfezione, la rimozione di contaminanti organici, l'attivazione della superficie, la modifica idrofila o la riduzione del TOC. Obiettivi diversi richiedono lunghezze d'onda e configurazioni di processo differenti.Valutare il materiale e le sue proprietà superficialiBisogna considerare il materiale del substrato, la composizione del rivestimento, lo spessore, l'assorbimento ottico, la sensibilità alla temperatura e le condizioni della superficie. Questi fattori influenzano l'efficacia con cui la radiazione UV può raggiungere e reagire con il materiale bersaglio.Verificare i requisiti di irradianza ed esposizioneLa sola potenza della lampada non determina le prestazioni del processo. È necessario considerare anche l'irradianza alla distanza di lavoro, il tempo di esposizione, la geometria della lampada, l'uniformità del fascio e la dose totale erogata.Esaminare i requisiti di integrazione delle apparecchiatureVerificare lo spazio di installazione disponibile, l'alimentazione elettrica, il metodo di raffreddamento, le condizioni del gas, la ventilazione, la schermatura e l'interfaccia di controllo. Per i sistemi a 172 nm, il percorso ottico e l'atmosfera intorno all'area di trattamento sono particolarmente importanti.Richiesta di test dell'applicazionePrima di adottare un sistema di produzione definitivo, testate la sorgente luminosa selezionata utilizzando campioni rappresentativi. Misurate i risultati rilevanti per il vostro processo, come la pulizia della superficie, l'angolo di contatto, l'adesione, l'aspetto del rivestimento o la concentrazione di TOC.Per sistemi industriali personalizzati, GMY può discutere le dimensioni delle lampade, i requisiti di alimentazione e gli alimentatori più adatti in base all'applicazione prevista. Gli acquirenti possono condividere i dettagli del loro processo tramite la pagina dei contatti di GMY per esplorare le soluzioni UV e VUV più idonee.Perché scegliere GMY per le soluzioni con lampade a eccimeri da 172 nm?GMY Lighting Technology Co., Ltd. è un'azienda produttrice di tecnologie per l'illuminazione con sede nel Guangdong, in Cina. L'azienda sviluppa e fornisce prodotti per l'illuminazione a raggi ultravioletti, infrarossi, alogeni, IPL e LED per applicazioni industriali e commerciali.La gamma di prodotti a eccimeri da 172 nm di GMY copre diverse aree di applicazione, tra cui:Pulizia di wafer di semiconduttori e fotomaschere.Trattamento superficiale con maschera FMM e Invar.Pulizia del substrato del display e dei componenti ottici.Modifica e fotopolimerizzazione di rivestimenti industriali.Attivazione della superficie idrofila.Riduzione del TOC (carbonio organico totale) dell'acqua ultrapura.L'azienda offre diverse configurazioni di lampade e modelli di prodotto per soddisfare svariate esigenze di installazione. Le sue specifiche VUV a 172 nm pubblicate includono diversi livelli di potenza, dimensioni del tubo, metodi di raffreddamento e lunghezze di emissione. Dimensioni, potenza e alimentatori personalizzati possono essere discussi in base all'applicazione.Per i team di ingegneri, la scelta di una lampada è solo una parte del processo. Anche la configurazione ottica, l'ambiente operativo, il sistema di controllo e i parametri di trattamento influenzano il risultato finale. Collaborare con un fornitore in grado di discutere questi fattori è utile quando si valuta una nuova applicazione VUV.Per scoprire i modelli e le opzioni di applicazione disponibili di GMY, visita la categoria di prodotti Lampade a eccimeri da 172 nm o consulta le specifiche dettagliate del prodotto sul sito web.Lampade UV tradizionali vs. lampade a eccimeri da 172 nm: domande frequentiQual è la principale differenza tra le tradizionali lampade UV e le lampade a eccimeri da 172 nm?La differenza principale risiede nella loro lunghezza d'onda e nel loro comportamento fotochimico. Le lampade UV tradizionali coprono diverse gamme di lunghezze d'onda e sono utilizzate per la polimerizzazione, la disinfezione e l'ossidazione in generale. Una lampada a eccimeri da 172 nm emette radiazioni ultraviolette sottovuoto a banda stretta, particolarmente utili per la pulizia delle superfici, l'attivazione delle superfici e processi fotochimici specializzati.Una lampada a eccimeri da 172 nm è migliore di una tradizionale lampada UV a mercurio?Non adatta a tutte le applicazioni. Una lampada a eccimeri da 172 nm può essere più indicata per la pulizia e la modifica di precisione delle superfici, mentre le tradizionali lampade UV a mercurio rimangono efficaci per molti processi consolidati di polimerizzazione, disinfezione e trattamento delle acque. La scelta corretta dipende dal materiale, dall'obiettivo del processo e dalla lunghezza d'onda richiesta.Qual è l'energia dei fotoni di una lampada a eccimeri da 172 nm?Un fotone a 172 nm trasporta circa 7,2 elettronvolt (eV) di energia. Questa elevata energia fotonica supporta le reazioni fotochimiche coinvolte nella decomposizione dei contaminanti organici e nella modifica delle superfici.Una lampada a eccimeri da 172 nm può sostituire una lampada UV convenzionale per la polimerizzazione?Non sempre. Per le reazioni fotochimiche superficiali si utilizza spesso una lampada a eccimeri da 172 nm, mentre per la polimerizzazione di strati di rivestimento più spessi possono essere necessari sistemi di polimerizzazione UV convenzionali. Alcune linee di verniciatura industriali utilizzano il trattamento con lampade a eccimeri in combinazione con una fase di polimerizzazione UV convenzionale.Quali materiali possono essere trattati con lampade a eccimeri da 172 nm?A seconda delle condizioni di processo, le lampade a eccimeri da 172 nm possono essere utilizzate per la pulizia e la modifica superficiale di wafer di semiconduttori, substrati per display, componenti ottici, metalli, materiali per batterie e superfici selezionate di polimeri o rivestimenti. La compatibilità dei materiali e i risultati del trattamento devono essere confermati tramite test.Perché la radiazione a 172 nm è adatta alla rimozione di contaminanti organici?I fotoni VUV ad alta energia possono rompere i legami molecolari nei contaminanti organici. Le reazioni che coinvolgono l'ossigeno e altre molecole circostanti possono ossidare ulteriormente i residui, contribuendo a pulire le superfici dei materiali esposti senza dover ricorrere alla tradizionale pulizia chimica a umido.Le lampade a eccimeri da 172 nm generano ozono?Le radiazioni a 172 nm possono interagire con l'ossigeno presente nell'atmosfera circostante e generare ozono. La progettazione del sistema deve pertanto tenere conto dell'atmosfera operativa, dell'involucro, della ventilazione forzata e dei requisiti di sicurezza applicabili.Le lampade a eccimeri GMY da 172 nm sono prive di mercurio?Sì. GMY descrive le sue lampade a eccimeri da 172 nm come sorgenti luminose VUV prive di mercurio. Questo le differenzia dalle tradizionali lampade UV a base di mercurio, che contengono mercurio come componente della loro tecnologia di scarica.Quali informazioni devo fornire quando richiedo una lampada a eccimeri da 172 nm personalizzata?Fornire l'applicazione prevista, il materiale di destinazione, il risultato di trattamento richiesto, le dimensioni di installazione, l'alimentazione elettrica disponibile, la distanza di lavoro, le condizioni di raffreddamento e l'ambiente operativo previsto. Questi dettagli aiutano il fornitore a valutare le configurazioni delle lampade e i requisiti di integrazione più adatti.
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